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GTR-KTP 晶体 - 抗灰迹磷酸钛氧钾
- KTP是一款优良的非线性晶体，但灰迹现象限制了其在高重复频率和高功率激光系统中的使用。福晶科技的抗灰迹磷酸钛氧钾（GTR-KTP）晶体比普通熔融生长的KTP晶体具有更高的抗灰迹能力。通过光热共光路干涉法，用强连续532nm绿光激光器照射晶体几分钟后其体吸收增加则可测试到灰迹现象的发生。
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纵向测试 (灰迹测试之前)：
上图显示GTR-KTP 晶体在1064nm处的吸收仅为传统的KTP晶体的1/10。
灰迹跟踪测试：
当一束绿光(400mW, 光束直径为 0.07mm, 功率密度为 10KW/cm2)通过晶体时,它会导致晶体红外吸收增加，这种现象就是相关的灰迹跟踪效应。下图显示了福晶公司的GTR-KTP晶体和传统的KTP晶体在1064nm处的吸收的差别。
灰迹跟踪测试后横截面的扫描结果(1064nm处)：
灰迹跟踪测试后横截面的扫描结果(532nm处)：
损伤阈值测试：
通过测试 GTR-KTP晶体和传统的 KTP晶体 (抛光片) （激光条件 10ns, 1 HZ）,我们发现福晶公司提供的 GTR-KTP晶体的损伤阈值为1.8GW/cm2 @ 1064nm, 在相同条件下远远高于传统的KTP晶体(450MW/cm2 )。
透射曲线（在可见光和紫外光区域）：
很明显，福晶公司的 GTR-KTP晶体比传统的KTP晶体在波段350-550nm之间具有更低的吸收；我们得出的结论是福晶公司的GTR-KTP晶体比普通的熔融生长的KTP晶体具有更高的抗灰迹能力
福晶公司可提供镀制如下膜系：
• 可根据需求提供IBS, IAD 或 电子束溅射等镀制方式 ；
• GTR-KTP晶体1064nm倍频--双波长增透膜(DBAR) ；
低反射率 (R<0.2% @ 1064nm 和 R<0.5% 532nm，1.2GW/cm2 @ 1064nm, >300MW/cm2 @ 532nm, @ 10ns, 2.5HZ) ；
• GTR-KTP晶体OPO应用宽带增透膜 (BBAR)；
• 高反射率: HR-1064nm & HT-532nm, R>99.8%@1064nm, T>95%@532nm；
• 可根据需求提供镀制其他膜系。
福晶公司可提供以下服务：
• 严格的质量控制；
• 晶体尺寸可达到 7x7x20mm3 ；
• 快速发货时间(抛光片2 周, 镀膜片3周)；
• 优越的价格，大批量订购可享受折扣；
• 技术支持；
• AR, HR-镀膜，支架装配及返修抛光的服务。
规格指标：
• 尺寸公差： (W±0.1mm)x(H±0.1mm)x(L+0.5/-0.1mm) (L≥2.5mm)
(W±0.1mm)x(H±0.1mm)x(L+0.1/-0.1mm) (L<2.5mm)
• 有效通光孔径： 90% 中心区域
• 50mW绿光检测无可见散射路径
• 平面度：优于λ/8 @ 633nm
• 透射波前畸变：优于λ/8 @ 633nm
• 倒角： ≤0.2mmx45°
• 崩边：≤0.1mm
• 光洁度：优于 10/5(抛光片) to MIL-PRF-13830B
优于 20/10(增透膜) to MIL-PRF-13830B
优于 40/20(高反膜) to MIL-PRF-13830B
• 平行度：优于 20 arc seconds
• 垂直度：≤5 arc minutes
• 角度公差：≤0.25°
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