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  • PLI弱吸收测试仪

  • PLI弱吸收测试仪(Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument)是一款基于表面热透镜效应设计,对激光光学元件的弱吸收具有很高的灵敏度的测试仪器。
产品描述
福晶课堂
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PLI弱吸收测试仪

中文名 PLI弱吸收测试仪

英文 Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument (PLI)

 

产品原理

PLI弱吸收测试仪(Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument)是一款基于表面热透镜效应设计,对激光光学元件的弱吸收具有很高的灵敏度的测量仪器。

使用一束泵浦光辐照样品,由于吸收激光束能量,样品内部产生热量,形成了一定的温度分布,产生表面形变或体内折射率梯度分布,形成了一个类似于透镜的效果。用另一束探测激光光束检测被测样品表面形变或者折射率梯度变化,从光电探测器收集到的信号变化经锁相放大器处理,提取出与吸收相关的信息。通过对光热信号幅值标定和软件计算,最终可以得到被测样品的吸收值。

基于以上原理,推出的福晶PLI 100弱吸收测试仪,具有以下特点:

● 选用福晶科技优质光学元件,以最优的价格选配最佳的光学元件,提升PLI系统性能

● 功能丰富的测量软件集成了各组成系统的控制,直观易用的操作页面可在过程中同步观察测量结果

● 可根据需求定制多泵浦光源的检测系统,实现一维、二维吸收及分布的测量

 

产品参数

光源

泵浦光源:1064 nm、532 nm、355 nm,或其他定制波长

探测光源:He-Ne 激光

测量精度

1 ppm

样品尺寸

最小尺寸:2 x 2 x 2 mm3
最大尺寸:50 x 50 x 50 mm3

圆形、方形样品均适用

测试速度

薄膜吸收<1min
基体吸收~2min(6mm厚度)

测量功能

一维深度逐点扫描
二维吸收分布扫描

一次性进行表面(膜层)吸收和体(基板)吸收的区分测量
时间扫描,可观测吸收随时间的变化关系

可根据需求定制单、双、三测量通道

电源要求

100-240 VAC,50/60 Hz

 产品尺寸

(L×W×H)

主机 960×635×380 mm3

机柜 835×550×700 mm3

注意事项

高精密光学仪器,建议在稳定的光学平台上使用,安装在超净间环境

使用时,请佩戴激光防护眼镜,保障实验室与操作人员安全

 

应用领域

● 可应用于光学、晶体材料吸收、光学薄膜吸收、表面缺陷分析(抛光、镀膜工艺辅助改善、胶合/键合质量分析等)

测试实例

Nd:YVO4晶体基体吸收

 

 

LBO晶体基体吸收

 

 

KTP晶体基体吸收

 

 

TGG晶体基体吸收

 

 

薄膜吸收

 

 

二维扫描实例

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PLI弱吸收测试仪

PLI弱吸收测试仪(Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument)是一款基于表面热透镜效应设计,对激光光学元件的弱吸收具有很高的灵敏度的测试仪器。
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福晶课堂

PLI弱吸收测试仪

中文名 PLI弱吸收测试仪

英文 Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument (PLI)

 

产品原理

PLI弱吸收测试仪(Photothermal-Lensing Absorption Measuring Instrument)是一款基于表面热透镜效应设计,对激光光学元件的弱吸收具有很高的灵敏度的测量仪器。

使用一束泵浦光辐照样品,由于吸收激光束能量,样品内部产生热量,形成了一定的温度分布,产生表面形变或体内折射率梯度分布,形成了一个类似于透镜的效果。用另一束探测激光光束检测被测样品表面形变或者折射率梯度变化,从光电探测器收集到的信号变化经锁相放大器处理,提取出与吸收相关的信息。通过对光热信号幅值标定和软件计算,最终可以得到被测样品的吸收值。

基于以上原理,推出的福晶PLI 100弱吸收测试仪,具有以下特点:

● 选用福晶科技优质光学元件,以最优的价格选配最佳的光学元件,提升PLI系统性能

● 功能丰富的测量软件集成了各组成系统的控制,直观易用的操作页面可在过程中同步观察测量结果

● 可根据需求定制多泵浦光源的检测系统,实现一维、二维吸收及分布的测量

 

产品参数

光源

泵浦光源:1064 nm、532 nm、355 nm,或其他定制波长

探测光源:He-Ne 激光

测量精度

1 ppm

样品尺寸

最小尺寸:2 x 2 x 2 mm3
最大尺寸:50 x 50 x 50 mm3

圆形、方形样品均适用

测试速度

薄膜吸收<1min
基体吸收~2min(6mm厚度)

测量功能

一维深度逐点扫描
二维吸收分布扫描

一次性进行表面(膜层)吸收和体(基板)吸收的区分测量
时间扫描,可观测吸收随时间的变化关系

可根据需求定制单、双、三测量通道

电源要求

100-240 VAC,50/60 Hz

 产品尺寸

(L×W×H)

主机 960×635×380 mm3

机柜 835×550×700 mm3

注意事项

高精密光学仪器,建议在稳定的光学平台上使用,安装在超净间环境

使用时,请佩戴激光防护眼镜,保障实验室与操作人员安全

 

应用领域

● 可应用于光学、晶体材料吸收、光学薄膜吸收、表面缺陷分析(抛光、镀膜工艺辅助改善、胶合/键合质量分析等)

测试实例

Nd:YVO4晶体基体吸收

 

 

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